內容簡介
內容簡介 2012年刊「透明導電膜の新展開IV』の普及版。塗布・印刷技術など、多様な成膜・パターン形成技術とディスプレイからタッチパネル、太陽電池、調光窓(スマートウインドウ)などの応用展開を紹介している。 第Ⅰ編 透明導電膜材料開発および膜形成技術の新展開第1章 金属酸化物透明導電膜 1 高分子フィルムへの高性能透明導電薄膜形成技術 1.1 はじめに1.2 透明導電膜材料と薄膜作製法1.2.1 透明導電膜材料1.2.2 透明導電薄膜作製方法1.3 プラスチックフィルムへの透明導電膜作製例と諸特性1.3.1 低電圧化マグネトロンスパッタ法によるITO薄膜の作製例1.3.2 低エネルギーイオンプレーティングによるITO薄膜1.3.3 パルスレーザーディポジション(PLD)法によるITO薄膜1.3.4 低温プロセスによるITO薄膜の諸特性と課題1.3.5 N‐MHVスパッタ法による低抵抗・結晶化ITO薄膜1.4 金属合金 誘電体ナノ積層化による低抵抗透明導電膜1.4.1 金属 酸化物ナノ積層化透明導電薄膜1.4.2 金属 窒化物ナノ積層化透明導電薄膜1.5 今後の課題とまとめ2 低ダメージスパッタ成膜による高品質ZnO系透明導電膜形成技術 2.1 直流マグネトロンスパッタ成膜の問題点2.2 ZnO系透明導電膜のマグネトロンスパッタ成膜2.3 薄膜太陽電池用ZnO系透明電極のRF+DC-MSD3 プリンテッド透明導電膜材料 3.1 はじめに3.2 ITOナノインク3.3 ITOナノ粒子合成指針3.4 ITOナノ粒子合成法開発3.5 確立したITOナノ粒子合成法3.6 おわりに4 透明電極形成用低酸素含有ZnO系粉末および焼結体ターゲットの開発 4.1 はじめに4.2 特殊な酸化亜鉛粉末4.3 導電性酸化亜鉛粉末の製法4.4 導電性酸化亜鉛粉末の焼結性4.5 低酸素含有A1添加酸化亜鉛粉末をターゲットに用いた直流マグネトロンスパッタ法によるAZO薄膜作製4.6 ZnO系焼結体ターゲットの作製4.6.1 焼結体の作製と物性4.6.2 直径6インチ焼結体ターゲットの作製と物性4.7 ZnO系焼結体ターゲットを用いたスパッタ製膜第2章 金属ナノ粒子・ナノワイヤ・金属メッシュ透明導電膜 1 高透明導電性金属メッシュフィルム 1.1 はじめに1.2 印刷法とめっき法による金属メッシュフィルムの製造方法について1.2.1 触媒含有インクについて1.2.2 下地層について1.2.3 印刷方法1.2.4 めっき方法1.3 印刷法とめっき法による金属メッシュフィルムの特性1.4 電磁波シールドフィルムの設計1.5 おわりに2 銀塩写真技術を応用した透明導電性フィルム「EXCLEAR」
