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半導體元件物理與製程: 理論與實務 (第3版)

作者 劉傳璽/ 陳進來
出版社 五南圖書出版股份有限公司
商品描述 半導體元件物理與製程: 理論與實務 (第3版):本書以深入淺出的方式,系統性地介紹目前主流半導體元件(CMOS)之元件物理與製程整合所必須具備的基礎理論、重要觀念與方法、以

內容簡介

內容簡介 本書以深入淺出的方式,系統性地介紹目前主流半導體元件(CMOS)之元件物理與製程整合所必須具備的基礎理論、重要觀念與方法、以及先進製造技術。內容可分為三個主軸:第一至第四章涵蓋目前主流半導體元件必備之元件物理觀念、第五至第八章探討現代與先進的CMOS IC之製造流程與技術、第九至第十二章則討論以CMOS元件為主的IC設計和相關半導體製程與應用。由於強調觀念與實用並重,因此儘量避免深奧的物理與繁瑣的數學;但對於重要的觀念或關鍵技術均會清楚地交代,並盡可能以直觀的解釋來幫助讀者理解與想像,以期收事半功倍之效。 本書宗旨主要是提供讀者在積體電路製造工程上的 know-how 與 know-why;並在此基礎上,進一步地介紹最新半導體元件的物理原理與其製程技術。它除了可作為電機電子工程、系統工程、應用物理、與材料工程領域的大學部高年級學生或研究生的教材,也可以作為半導體業界工程師的重要參考。 本書內容足以提供連續兩學期的半導體元件物理與製程技術的課程。若是一個一學期的課程,則教師可以使用第一章至第五章的內容來講授半導體元件物理;或是使用第一章與第五至第八章的內容來講授現代半導體製程技術。

作者介紹

作者介紹 ■作者簡介劉傳璽現職:國立台灣師範大學機電科技學系所副教授 銘傳大學電子工程學系所兼任副教授 國際電機電子工程學會(IEEE)論文審查委員學歷:美國亞歷桑那州立大學電機所博士經歷:銘傳大學電子系副教授兼系主任 所長 國立台北科技大學兼任副教授 聯華電子公司經理 美國紐約IBM公司研發工程師 IEEE IEDM 2003 & 2004 委員會委員與論文審查委員 新竹科學園區聯電、台積電、台灣應用材料、力晶半導體、漢磊科技、義隆電子、華邦電子等公司之授課老師著作:國際學術論文發表46篇、專書3本、美國專利8件、與其他國家專利11件陳進來現職:宜特科技電子公司副總經理學歷:國立交通大學電子工程博士經歷:聯華電子製程整合 技術開發10年經驗 國際電子元件會議(IEDM)IC製造委員會(ICM)主席(2000~2002) 國際電子元件會議(IEDM)亞洲主席(2003~2004) 第十二屆中華民國國家發明獎個人組銅牌(2003)著作:21篇半導體製程 元件開發論文 92件中華民國 美國 日本 韓國半導體製程專利

產品目錄

產品目錄 第一章 半導體元件物理的基礎1.1 半導體能帶觀念與載子濃度1.2 載子的傳輸現象1.3 支配元件運作的基本方程式1.4 本章習題第二章 P-N 接面2.1 P-N接面的基本結構與特性2.2 零偏壓2.3 逆向偏壓2.4 空乏層電容2.5 單側陡接面2.6 理想的電流-電壓特性2.7 實際的電流-電壓特性2.8 接面崩潰現象與機制2.9 本章習題第三章 金氧半場效電晶體(MOSFET)的基礎3.1 MOS電容的結構與特性3.2 理想的MOS(金氧半)元件3.3 實際的MOS(金氧半)元件3.4 本章習題第四章 長通道MOSFET元件4.1 MOSFET的基本結構與類型4.2 基本操作特性之觀念4.3 電流-電壓特性之推導4.4 其他重要元件參數與特性4.5 本章習題第五章 短通道MOSFET元件5.1 短通道元件的輸出特性5.2 短通道元件的漏電流現象5.3 本章習題第六章 CMOS製造技術與製程介紹6.1 CMOS製造技術6.2 CMOS製造流程介紹6.3 本章習題第七章 製程整合7.1 元件發展需求7.2 基板工程(substrate engineering)7.3 閘極工程7.4 源 汲極工程(Source Drain engineering)7.5 內連線工程(inter-connection)7.6 本章習題第八章 先進元件製程8.1 先進元件製程需求8.2 SOI8.3 應變矽Strain Si8.4 非平面元件 3D device8.5 高介電閘極氧化層(High K gate dielectric)8.6 金屬閘極Metal gate8.7 本章習題第九章 邏輯元件9.1 邏輯元件的要求—速度、功率9.2 反向器(Inverter)9.3 組合邏輯(Cmbinational Logic)9.4 時序邏輯Sequential Logic —Latch, DFF9.5 邏輯元件應用Standard Cell、Gate Array、CPLD、FPGA9.6 本章習題第十章 邏輯 類比混合訊號10.1 混合訊號特性10.2 混合訊號電路10.3 混合訊號的主動元件( Active device)10.4 混合訊號被動元件(Passive device)10.5 混合訊號電路特別需求10.6 本章習題第十一章 記憶體11.1 CMOS記憶體特性與分類11.2 靜態隨機存取記憶體SRAM11.3 動態隨機存取記憶體DRAM11.4 快閃記憶體Flash11.5 發展中的先進記憶體11.6 本章習題第十二章 SOC與半導體應用12.1 IC功能分類12.2 SOC12.3 半導體應用12.4 本章習題第十三章 元件電性量測WAT13.1 直流(DC)電性量測13.2 C-V(capacitance-voltage)電性量測13.3 RF 電性量測13.4 元件模型13.5 本章習題

商品規格

書名 / 半導體元件物理與製程: 理論與實務 (第3版)
作者 / 劉傳璽 陳進來
簡介 / 半導體元件物理與製程: 理論與實務 (第3版):本書以深入淺出的方式,系統性地介紹目前主流半導體元件(CMOS)之元件物理與製程整合所必須具備的基礎理論、重要觀念與方法、以
出版社 / 五南圖書出版股份有限公司
ISBN13 / 9789571163741
ISBN10 / 9571163740
EAN / 9789571163741
誠品26碼 / 2680624325000
頁數 / 432
開數 / 16K
注音版 /
裝訂 / P:平裝
語言 / 1:中文 繁體
級別 / N:無

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